合成反応モジュール
反応釜(50L~5000L),両端面メカニカルシールを装備
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● 超純水/注射用水(UPW/WFI)供給
EDI+多段蒸留プロセスを採用し、オゾン循環殺菌と紫外線消毒モジュールを装備。USP〈645〉/EP 2.2.45規格に適合し、バイオ医薬品製造、半導体洗浄などの超純水プロセスニーズに対応します。
● 高純度ガス供給システム
PSA窒素発生装置と電解式水素発生システムを搭載。圧力範囲は調整可能で、流量は安定しています。脱酸素触媒と粒子フィルターを内蔵し、水素化反応、不活性ガス保護などの厳しい条件下での使用に対応します。