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核心工艺控制点
高剪切均质乳化
核心工艺控制点
2025-05-08

●均质机多级控制(转子-定子结构,转速1000-10000 rpm可调),粒径分布D90≤5μm(纳米乳剂可达100-500 nm)

●剪切能量实时监控(扭矩传感器),防止局部过热导致活性成分失活(如制药外用乳膏)